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       11月19日消息，Blackwell架構的RTX 50系列顯卡預計在2025年登場，根據靠譜曝料者kopite7kimi的最新說法，其制造工藝將升級為臺積電3nm。

目前唯一使用3nm工藝的就是蘋果A17 Pro，不過還是第一代N3。目前還不清楚NVIDIA會使用哪個版本，大概率還是定制版。

       相比RTX 40系列現在使用的臺積電4N 5nm工藝相比，據說NVIDIA使用的3nm可在同等功耗下降性能提升最多15％，或者在同等性能下將功耗降低最多30％，最關鍵的是核心面積可以減少大約42％！

       RTX 4090使用的AD102核心面積為609平方毫米，相比于三星8nm工藝的RTX 3090 Ti GA102 628平方毫米幾乎不變，而換上臺積電3nm之后，即便晶體管再次大大增加，面積也能縮小很多，對于降低成本、提高良率至關重要。

       另外，RTX 50系列還有望升級到DisplayPort 2.1接口規范，相比現在的1.4版本實現一次飛躍，也可以追上AMD RX 7000系列。

DP 1.4僅支持HBR 3，四通道下有效帶寬僅為25.9Gbps。

DP 2.0則升級到了HBR 13.5，有效帶寬高達52.2Gbps，完全可以滿足16K超高分辨率輸出的需求。

 

       雖然絕大多數普通人根本用不到如此帶寬，但對于頂級玩家、專業設計師來說將不存在任何限制。

此外，RTX 50系列有望引入PCIe 5.0，成為摩爾線程MTT S系列之后第二款PCIe 5.0顯卡。

 

       公版供電接口將繼續使用16針，但可能會更新為12V-2x6版本，比現在的12VHPWR更可靠，高功率下也不容易燒毀。

當然了，RTX 50系列還會升級到GDDR7顯存。

 

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